Назначение:
Установка предназначена для удаления остатков фоторезиста, активации поверхности, также позволяет осуществлять процессы сухого травления некоторых веществ, например графена и нанотрубок.

Основные направления исследований, проводимых с использованием установки:

• Литографические процессы.
• Физика ван-дер-Ваальсовых гетероструктур (работа с тонкими чешуйками).

Характеристики:
Объем камеры	1 л.
Частота	40 кГц.
Мощность	300 Вт.
Вакуум	10-1 — 3*100 Торр.
Генератор кислорода	6 л/час
Газовый кабинет	с контроллерами расхода