Рубрика: Нанотехнологическое оборудование

Оптимизирована для нанесения металла на легколетучие вещества (например, органические полупроводники).

В установку входят: трубчатая печь KJ-T-1200; цифровая станция контроля расхода газа. Назначение:Установка полностью функциональна и активно используется для изготовления различных образцов.

Назначение:Установка предназначена для напыления эпитаксиальных ВТСП пленок и гетероструктур на их основе.

Назначение:Для прецизионного совмещения микрообъектов.

Назначение:Установка предназначена для удаления остатков фоторезиста, активации поверхности, также позволяет осуществлять процессы сухого травления некоторых веществ, например графена и нанотрубок.

Назначение:Для очистки и обработки поверхности наноструктур в кислородной плазме низкой плотности. Назначение:Для очистки и обработки поверхности наноструктур в кислородной плазме низкой плотности. Назначение:Для очистки и обработки поверхности наноструктур в кислородной плазме низкой плотности.

Полное название установки:Установка для лазерной литографии mPG101.

Полное название установки:Устройство центрифугирования фоторезиста  Laurell Technologies WS-400A. Назначение:Нанесения тонких пленок.

Полное наименование установок: MEB-400 и MEB-550. Назначение:Установки предназначены для напыления тонких металлических пленок, в том числе из разных металлов без разрыва вакуума, методом электронно-лучевого напыления. Дополнительно установка MEB-500 обладает возможностью напыления под разными углами, in-situ окисления в камере, и чистки(травления) Read More …