Нанотехнологическое оборудование

Оптимизирована для нанесения металла на легколетучие вещества (например, органические полупроводники).

В установку входят: трубчатая печь KJ-T-1200; цифровая станция контроля расхода газа. Назначение:Установка полностью функциональна и активно используется для изготовления различных образцов.

Назначение:Установка предназначена для напыления эпитаксиальных ВТСП пленок и гетероструктур на их основе.

Назначение:Для прецизионного совмещения микрообъектов.

Назначение:Установка предназначена для удаления остатков фоторезиста, активации поверхности, также позволяет осуществлять процессы сухого травления некоторых веществ, например графена и нанотрубок.

Назначение:Для очистки и обработки поверхности наноструктур в кислородной плазме низкой плотности. Назначение:Для очистки и обработки поверхности наноструктур в кислородной плазме низкой плотности. Назначение:Для очистки и[…]

Полное название установки:Установка для лазерной литографии mPG101.

Полное название установки:Устройство центрифугирования фоторезиста  Laurell Technologies WS-400A. Назначение:Нанесения тонких пленок.