Установка KJ-OTF-1200 CVD

В установку входят: трубчатая печь KJ-T-1200; цифровая станция контроля расхода газа. Назначение:Установка полностью функциональна и активно используется для изготовления различных образцов.

Установка плазмохимической очистки

Назначение:Для очистки и обработки поверхности наноструктур в кислородной плазме низкой плотности. Назначение:Для очистки и обработки поверхности наноструктур в кислородной плазме низкой плотности. Назначение:Для очистки и обработки поверхности наноструктур в кислородной плазме низкой плотности. Назначение:Для очистки и обработки поверхности наноструктур в Read More …

Установки электронно-лучевого напыления

Полное наименование установок: MEB-400 и MEB-550. Назначение:Установки предназначены для напыления тонких металлических пленок, в том числе из разных металлов без разрыва вакуума, методом электронно-лучевого напыления. Дополнительно установка MEB-500 обладает возможностью напыления под разными углами, in-situ окисления в камере, и чистки(травления) Read More …