Кластерная установка плазмохимического травления и осаждения

Назначение:
Установка предназначена для удаления остатков фоторезиста, активации поверхности, также позволяет осуществлять процессы сухого травления некоторых веществ, например графена и нанотрубок.

Основные направления исследований, проводимых с использованием установки:

• Литографические процессы.
• Физика ван-дер-Ваальсовых гетероструктур (работа с тонкими чешуйками).