Назначение:
Установка предназначена для напыления эпитаксиальных ВТСП пленок и гетероструктур на их основе.
Особенности установки:
- Осаждение в классической осевой геометрии.
- Исключение микрокапель и твердых частиц из потока лазерной плазмы с помощью скоростной фильтрации.
- Возможность in situ смены мишеней и послойного осаждения пленок различных материалов.
- Максимальный размер образца – 15х15 мм
