Магнетронное/электронно-лучевое напыление

Полное название установки:
Многофункциональная вакуумная напылительная установка.

Назначение:
Вакуумная установка производства фирмы «Торр» предназначена для нанесения металлических, оксидных и других покрытий и тонких пленок на различные подложки методами термического, электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления.

  • Установка обеспечивает нагрев и вращение подложек в процессе напыления.
  • Установка обеспечивает непрерывный контроль процесса осаждения при помощи кварцевого толщиномера.
  • Дополнительно в камере установлена ионная пушка для травления и чистки подложек перед осаждением.
  • Магнетронное распыление возможно из трех источников, два из них имеют ВЧ источники питания.
  • Электронный испаритель оборудован каруселью на 4 тигля.
  • Термический испаритель представляет собой вольфрамовую лодочку.
  • Все источники оборудованы заслонками, снижающими вероятность взаимного загрязнения источников.

Технические характеристики высоковакуумной установки магнетронного и термического осаждения тонких пленок фирмы Torr International, Inc. (США):

Вакуумная система
1. Объем рабочей камеры 130 л.
2. Предельный вакуум, не хуже

10-8мБар

3. Тип основного насоса ТМН
4. Скорость откачки, не менее 700л/с
5. Тип форвакуумного насоса безмасляный
6. Возможность осаждения с протоком газа да
Источники напыления
1. Магнетронные источники с блоками питания мощностью не менее (3 шт.) 1кВт
2. Электронно-лучевой испаритель с блоком питания мощностью не менее (1 шт.) 5кВт
3. Термические испарители с блоками питания мощностью не менее (3 шт.) 2кВт
Система управления параметрами осаждения
1. Диапазон рабочих давлений

10-8-10-2мБар

2. Держатель подложек диаметром, не менее 50мм
3. Нагреватель подложек до температуры, не менее 800°С
4. Скорость вращения подложек 20 оборотов/мин
5. Ионная чистка подложки в камере да
6. Шлюзовая камера для загрузки подложек да
7. Автоматизированный контроль параметров осаждения да