Магнетронное/электронно-лучевое напыление

Полное название установки:
Многофункциональная вакуумная напылительная установка.

Назначение:
Вакуумная установка производства фирмы “Торр” предназначена для нанесения металлических, оксидных и других покрытий и тонких пленок на различные подложки методами термического, электронно-лучевого испарения или магнетронного распыления.

• Установка обеспечивает нагрев и вращение подложек в процессе напыления.
• Установка обеспечивает непрерывный контроль процесса осаждения при помощи кварцевого толщиномера.
• Дополнительно в камере установлена ионная пушка для травления и чистки подложек перед осаждением.
• Магнетронное распыление возможно из трех источников, два из них имеют ВЧ источники питания.
• Электронный испаритель оборудован каруселью на 4 тигля.
• Термический испаритель представляет собой вольфрамовую лодочку.
• Все источники оборудованы заслонками, снижающими вероятность взаимного загрязнения источников.

Технические характеристики высоковакуумной установки магнетронного и термического осаждения тонких пленок фирмы Torr International, Inc. (США):

Вакуумная система
1.	Объем рабочей камеры	130 л.
2.	Предельный вакуум, не хуже	10-8мБар
3.	Тип основного насоса	ТМН
4.	Скорость откачки, не менее	700л/с
5.	Тип форвакуумного насоса	безмасляный
6.	Возможность осаждения с протоком газа	да
Источники напыления
1.	Магнетронные источники с блоками питания мощностью не менее (3 шт.)	1кВт
2.	Электронно-лучевой испаритель с блоком питания мощностью не менее (1 шт.)	5кВт
3.	Термические испарители с блоками питания мощностью не менее (3 шт.)	2кВт
Система управления параметрами осаждения
1.	Диапазон рабочих давлений	10-8-10-2мБар
2.	Держатель подложек диаметром, не менее	50мм
3.	Нагреватель подложек до температуры, не менее	800°С
4.	Скорость вращения подложек	20 оборотов/мин
5.	Ионная чистка подложки в камере	да
6.	Шлюзовая камера для загрузки подложек	да
7.	Автоматизированный контроль параметров осаждения	да