Полное наименование установки:
Установка лазерного напыления PLD/MBE модель PVD-2300
Назначение:
Установка PLD/MBE 2300 предназначена для выращивания эпитаксиальных пленок, монослойных пленочных структур, и/или комбинаторных тонких пленок и может быть легко интегрирована с широким спектром других методов напыления, таких как магнетронное распыление, эффузионные ячейки, генераторы озона, и атомные или ионные источники. Эти уникальные системы позволяют пользователю использовать для роста уникальных пленочных структур несколько методов осаждения на небольшой площади.
Установка позволяет получать пленки различных материалов посредством вакуумного распыления мишени требуемого состава сфокусированным излучением эксимерного лазера (метод лазерной абляции).
Характеристики:
Вакуумная камера установки имеет диаметр 18 дюймов и высоту 16 дюймов и оснащена электрическим подъемником для обеспечения легкого доступа к внутренним частям камеры. На камере расположены несколько фланцев для просмотра мишени, подложки и абляционного факела, а также система дифракции быстрых электронов (HP RHEED) и волоконно-оптический пирометр.
| Максимальный размер подложки | 2 дюйма |
| Максимальная температура подложки | 950°C (в кислороде) для Si, 850°C для прозрачных подложек (сапфир) в бесконтактном режиме |
| Температурная однородность | ± 8 ° C на подложке диаметром 2 дюйма |
| Диапазон рабочего давления | от 5×10-9 Торр до 500 мТорр |
| Количество и размер мишеней | Шесть (6) двухдюймовых |
| Расстояние мишень подложка | от 50 мм до 100 мм |
| Номинальный угол падения лазерного луча на цель | 60o |
| Лазер | эксимерный (KrF) с длиной волны 248 нм |
| Частота импульсов | 100 Гц |
| Откачка камеры | безмасляная (турбонасос и спиральный насос) |
| Предельное остаточное давление в камере не более | 5·10-7Торр |
| Измерение температуры подложки | световодным оптическим пирометром |
Дополнительная информация
Существует возможность растровой развертки лазерного пятна по поверхности мишени, что обеспечивает высокую однородность пленки и более полное использование материалов.
Основные направления исследований, проводимых с использованием установки:
Напыление пленок и гетероструктур на основе сверхпроводников, топологических изоляторов и других квантовых материалов. Выращивание тонких ВТСП пленок и различных структур на их основе.
Ответственное лицо: Красносвободцев Сергей Иванович +7(499)132-6231; krasnosvobodcevsi@lebedev.ru