В установку входят:
- трубчатая печь KJ-T-1200;
- цифровая станция контроля расхода газа.
Назначение:
Установка полностью функциональна и активно используется для изготовления различных образцов.
Описание установки:
Установка KJ-OTF-1200 CVD в составе представляет собой трубчатую печь диаметром отверстия 60 мм с контроллером на температуры до 1200 С, системой вакуумной откачки и регуляции подачи газов. трубчатой печи KJ-T-1200 и цифровой станции контроля.
Установка конфигурируемая, в частности используется для:
- отжига образцов слоистых материалов в вакууме;
- нанесения париленового покрытия методом CVD.
Блок регуляции расхода газа применяется в установке плазмохимического травления.
