Полное название установки:
Устройство центрифугирования фоторезиста Laurell Technologies WS-400A.
Назначение:
Нанесения тонких пленок.
Параметры:
скорость вращения до 10000 об/мин,
размеры подложек 5-200 мм.
Центр высокотемпературной сверхпроводимости и квантовых материалов им. В.Л. Гинзбурга
Полное название установки:
Устройство центрифугирования фоторезиста Laurell Technologies WS-400A.
Назначение:
Нанесения тонких пленок.
Параметры:
скорость вращения до 10000 об/мин,
размеры подложек 5-200 мм.