Установка импульсного лазерного напыления ВТСП гетероструктур с модулем скоростной фильтрации

Назначение:
Установка предназначена для напыления эпитаксиальных ВТСП пленок и гетероструктур на их основе.

Особенности установки:

  • Осаждение в классической осевой геометрии.
  • Исключение микрокапель и твердых частиц из потока лазерной плазмы с помощью скоростной фильтрации.
  • Возможность in situ смены мишеней и послойного осаждения пленок различных материалов.
  • Максимальный размер образца — 15х15 мм
Общий вид вакуумной камеры установки импульсного лазерного напыления

Installations for the synthesis of organic compounds crystals  by electrochemical methods (on-site of IPCP).

Installing for the pulsed laser deposition of HTSC heterostructures with high-speed filtering module.

The unit is designed for the deposition of epitaxial HTS films and heterostructures.

Installation features:

  • Deposition in classical axial geometry.
  • Elimination of microdroplets and particulates from the laser plasma flow using velocity filtering.
  • The ability to change the target in situ and layer deposition of various materials films.
  • Maximum sample size — 15×15 mm