Назначение:
Установка предназначена для напыления эпитаксиальных ВТСП пленок и гетероструктур на их основе.
Особенности установки:
- Осаждение в классической осевой геометрии.
- Исключение микрокапель и твердых частиц из потока лазерной плазмы с помощью скоростной фильтрации.
- Возможность in situ смены мишеней и послойного осаждения пленок различных материалов.
- Максимальный размер образца — 15х15 мм
Installations for the synthesis of organic compounds crystals by electrochemical methods (on-site of IPCP).
Installing for the pulsed laser deposition of HTSC heterostructures with high-speed filtering module.
The unit is designed for the deposition of epitaxial HTS films and heterostructures.
Installation features:
- Deposition in classical axial geometry.
- Elimination of microdroplets and particulates from the laser plasma flow using velocity filtering.
- The ability to change the target in situ and layer deposition of various materials films.
- Maximum sample size — 15×15 mm