Кластерная установка плазмохимического травления и осаждения

Назначение:
Установка предназначена для удаления остатков фоторезиста, активации поверхности, также позволяет осуществлять процессы сухого травления некоторых веществ, например графена и нанотрубок.

Основные направления исследований, проводимых с использованием установки:
Литографические процессы.
Физика ван-дер-Ваальсовых гетероструктур (работа с тонкими чешуйками).

Характеристики:
Объем камеры1 л.
Частота40 кГц.
Мощность300 Вт.
Вакуум10-1 — 3*100 Торр.
Генератор кислорода6 л/час
Газовый кабинетс контроллерами расхода